精华帖：LCD显示屏制作流程详解

　　今天的内容具有非常高的专业度，给大家带来的是LCD显示屏制作流程详解。

　　LCD制程工艺图解如下：

　　LCD制作流程简介 - 前清洗，图解如下：

　　前清洗:除去带ITO(氧化甸-氧化锡的混合物）玻璃表面上的污染物:如油污、其它有机物、灰尘等。

　　一般进料玻璃大小为14"*16”(355.6×406.4mm)

　　工艺上使用全自动清洗线，最后通过IR炉去除水分，并通过UV光活化ITO玻璃使其更易附着光刻胶。工作环境是在净房里面，恒温和恒湿。

　　前清洗现在实行的工艺为:机械手投料→臭氧清洁→刷洗(GW2010)→US(超声波）清洗→高压DIW(纯水）清洗→风刀吹千→IR炉（红外加热）→UV光照。

　　LCD制作流程简介 - 涂胶 预烘，图解如下：

　　涂胶/预烘:在ITO玻璃表面均匀涂附光刻胶，并进行预烘。

　　LCD制作流程简介 - 曝光，图解如下：

　　曝光:即在涂好光刻胶的玻璃表面覆盖掩膜版，通过一定强度平行紫外光的选择性照射，使受光照部位的光刻胶发生化学反应，改变了这部分胶膜在显影液中的溶解度。

　　一般情况下有R(后版）机和F(前版）机。

　　LCD制作流程简介 - 显影/坚膜，图解如下：

　　显影/坚膜:显影就是用低浓度的NaOH溶液喷淋曝光玻璃表面，使其被感光的光刻胶被溶解掉，没有被感光的光刻胶仍然存在，再通过纯水清洗,这样ITO玻璃上就形成与光模相同的光刻胶图案。然后通过热板坚膜使显影后光刻胶图案牢固地粘附在ITO玻璃上，增强其抗腐蚀能力。

　　LCD制作流程简介 - 酸刻，图解如下：

　　酸刻:利用喷淋方式腐蚀掉曝露的ITO导电层，保留被光刻胶覆盖的ITO(这部分ITO即是我们所需的产品图形)。

　　酸刻液配比DIW(纯水):HCL:HNO3-=1:1:0.085(体积比)。

　　LCD制作流程简介 - 脱膜，图解如下：

　　脱膜:利用喷淋+超声波的冲洗方式(光刻胶可与高浓度的碱液起反应)，把覆盖在ITO上面的光刻胶反应掉，显露出所需的ITO图形，至此图案制作就完成了

　　经过脱膜后,须注意检查图案制作的效果。

　　A:串漏笔（用PATTERN CHECK抽查）。

　　B:外观缺陷(ITO针孔、走线边缘缺陷等）。

　　C:用投影仪检查电脚宽度、间距并与图纸对照，如能进行修补则用激光修补仪进行修补。

　　LCD制作流程简介 - PI，图解如下：

　　LCD制作流程简介 - 固膜，图解如下：

　　LCD制作流程简介 – 撒布，图解如下：

　　LCD制作流程简介 – 组合，图解如下：

　　LCD制作流程简介 – 小切割 灌晶，图解如下：

　　LCD制作流程简介 – 封口 固化，图解如下：

　　LCD制作流程简介 – 目电检，图解如下：

　　LCD制作流程简介 – 贴片，图解如下：

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